苏州合投光电申请光学薄膜沉积扫描控制方法及系统专利，提升光学薄膜的质量
时间：2025-09-01 23:16:51 阅读：
国家知识产权局信息显示，苏州合投光电科技有限公司申请一项名为“一种光学薄膜沉积扫描控制方法及系统”的专利，公开号CN120519818A，申请日期为2025年06月。
专利摘要显示，本发明属于档案整理技术领域，本发明提供了一种光学薄膜沉积扫描控制方法及系统，包括：通过将光学薄膜划分为若干区域，对每个区域内光学薄膜的均匀性进行分析，判断光学薄膜厚度是否均匀，将厚度异常的区域分为偏厚区域和偏薄区域，并判断沉积速率和扫描速度是否匹配，通过对偏厚区域和偏薄区域内沉积速率和扫描速度的匹配性和理论符合关系进行分析，判断光学薄膜厚度不均匀是否是由沉积速率和扫描速度不匹配造成的，根据理论关系对沉积速率和扫描速度进行调整，从而解决了光学薄膜沉积扫描过程中由于沉积速率和扫描速度不匹配导致光学薄膜厚度不均匀的问题，提升了光学薄膜的质量。
天眼查资料显示，苏州合投光电科技有限公司，成立于2022年，位于苏州市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本1000万人民币。通过天眼查大数据分析，苏州合投光电科技有限公司共对外投资了1家企业，参与招投标项目3次，专利信息14条，此外企业还拥有行政许可3个。
源自：