创芯集成申请溅射方法专利，有利于提高目标膜层的均匀性和质量
时间：2025-08-24 21:22:33 阅读：
国家知识产权局信息显示，浙江创芯集成电路有限公司申请一项名为“溅射方法”的专利，公开号CN120485707A，申请日期为2025年06月。
专利摘要显示，一种溅射方法，包括：提供基板；提供目标靶材；按照目标比例通入多种惰性气体的混合气体作为工作气体，其中，目标比例下混合气体的平均分子量与目标靶材的分子量之差小于预设值；采用工作气体轰击目标靶材进行溅射，在基板上形成目标膜层。
天眼查资料显示，浙江创芯集成电路有限公司，成立于2020年，位于杭州市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本182000万人民币。通过天眼查大数据分析，浙江创芯集成电路有限公司共对外投资了1家企业，参与招投标项目255次，财产线条，此外企业还拥有行政许可7个。
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