济南晶正电子取得基于等离子体刻蚀的黑化单晶压电复合薄膜及其制备方法专利
时间：2025-09-08 09:48:04 阅读：
国家知识产权局信息显示，济南晶正电子科技有限公司取得一项名为“基于等离子体刻蚀的黑化单晶压电复合薄膜及其制备方法”的专利，授权公告号CN114388688B，申请日期为2021年12月。
天眼查资料显示，济南晶正电子科技有限公司，成立于2010年，位于济南市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本2916.3031万人民币。通过天眼查大数据分析，济南晶正电子科技有限公司共对外投资了2家企业，参与招投标项目88次，财产线条，此外企业还拥有行政许可21个。
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