施密科微电子取得全自动晶圆槽式清洗机密封加压清洗槽专利，大幅提升清洗效率
时间：2025-09-02 21:39:51 阅读：
国家知识产权局信息显示，苏州施密科微电子设备有限公司取得一项名为“一种全自动晶圆槽式清洗机密封加压清洗槽”的专利，授权公告号CN223250033U，申请日期为2024年10月。
专利摘要显示，本实用新型公开一种全自动晶圆槽式清洗机密封加压清洗槽，包括工装主体以及设置在工装主体中间下侧位置处的安装座，所述安装座的中间内侧位置处设置有硅电极主体，所述安装座的上侧外部位置处设置有多个工装夹具，所述工装主体的上侧左右两端位置处分别设置有上喷淋管，下喷淋管的设置，实现了对硅电极主体下侧的直接清洁，与上喷淋管共同作用，无需翻面，大幅提升了清洗效率，同时确保了清洁的全面性，避免了传统单面清洗后需手动翻转的低效过程，通过上喷淋管及下喷淋管连接的喷淋头，喷出高压水流，能有效克服水珠的表面张力，直接渗透进硅电极主体的微小空隙中，解决了因水珠张力影响而无法深入清洁的问题，确保了清洁的深度和彻底性。
天眼查资料显示，苏州施密科微电子设备有限公司，成立于2017年，位于苏州市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本500万人民币。通过天眼查大数据分析，苏州施密科微电子设备有限公司共对外投资了1家企业，参与招投标项目45次，财产线条，此外企业还拥有行政许可5个。
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