京东方申请一种兼具高透射率和低反射率的薄膜及显示装置专利，使薄膜兼具高透射率和低反射率
时间：2025-08-19 16:04:32 阅读：
国家知识产权局信息显示，京东方科技集团股份有限公司、绵阳京东方光电科技有限公司申请一项名为“一种薄膜、显示装置”的专利，公开号CN120475858A，申请日期为2025年04月。
专利摘要显示，本公开提供了一种薄膜、显示装置，属于显示技术领域，旨在使薄膜兼具高透射率和低反射率，包括：基材层，包括相对的第一面和第二面；微结构层，位于所述基材层内部，包括位于所述第一面靠近所述第二面的一侧的第一微结构层，以及，位于所述第二面靠近所述第一面的一侧的第二微结构层，所述第一微结构层中的多个微结构在垂直于所述基材层的平面上的正投影图形，与所述第二微结构层中的多个微结构在垂直于所述基材层的平面上的正投影图形为以所述基材层的平面为对称轴的对称图形。
天眼查资料显示，京东方科技集团股份有限公司，成立于1993年，位于北京市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本3764501.6203万人民币。通过天眼查大数据分析，京东方科技集团股份有限公司共对外投资了72家企业，参与招投标项目266次，财产线条，此外企业还拥有行政许可48个。
绵阳京东方光电科技有限公司，成立于2016年，位于绵阳市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本2600000万人民币。通过天眼查大数据分析，绵阳京东方光电科技有限公司参与招投标项目773次，专利信息520条，此外企业还拥有行政许可181个。
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