芯恩申请使用标准晶圆清洁光刻机浸没罩方法专利，有效清除浸没罩中杂质
时间：2025-08-12 02:05:55 阅读：
国家知识产权局信息显示，芯恩集成电路有限公司申请一项名为“使用标准晶圆清洁光刻机浸没罩的方法”的专利，公开号CN120406053A，申请日期为2025年05月。
专利摘要显示，本发明提供一种使用标准晶圆清洁光刻机浸没罩的方法。该使用标准晶圆清洁光刻机浸没罩的方法包括：提供标准晶圆，标准晶圆表面具有凹槽图形；将标准晶圆置于光刻机内进行虚拟曝光，在虚拟曝光过程中，凹槽图形卡住光刻机的浸没罩中的杂质以将杂质带出浸没罩。这样可以有效地清除浸没罩中的杂质，实现对浸没罩进行清洁的目的，且不需要停机，有助于提高清洁效率，降低清洁浸没罩对光刻机产能的影响。
天眼查资料显示，芯恩集成电路有限公司，成立于2018年，位于青岛市，是一家以从事其他制造业为主的企业。企业注册资本1006720.789212万人民币。通过天眼查大数据分析，芯恩集成电路有限公司共对外投资了2家企业，参与招投标项目178次，财产线条，此外企业还拥有行政许可56个。
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