ASML申请生成衬底台的多个突起的突起图案的方法专利，生成用于支撑晶片的衬底台的表面部分中的突起的图案
时间：2025-08-05 06:22:06 阅读：
国家知识产权局信息显示，ASML荷兰有限公司申请一项名为“生成衬底台的多个突起的突起图案的方法”的专利，公开号CN120390983A，申请日期为2023年11月。
专利摘要显示，通过以下步骤来生成用于支撑晶片的衬底台的表面部分中的突起的图案：提供排斥周界电势，该排斥周界电势作用在支撑平面中并且包括外部周界电势，该外部周界电势被分配给围绕表面部分的外部周界点；提供突起的初始分布，每个突起在表面部分中具有可变突起位置；提供排斥突起电势，该排斥突起电势作用在支撑平面中并且被分配给突起；基于突起的位置处的周界电势和突起电势的叠加来计算作用在突起中的每个突起上的局部力；以及通过重复偏移突起位置并且计算在当前位置处作用在突起中的每个突起上的局部力直到预定优化标准被满足来生成要获取的突起图案。此外，描述了衬底台和衬底台的制造。
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