杭州高谱成像申请双推扫高光谱相机共视场光路调节方法及系统专利，实现高精度共视场调节
时间：2025-08-26 13:48:27 阅读：
国家知识产权局信息显示，杭州高谱成像技术有限公司申请一项名为“一种双推扫高光谱相机共视场光路调节方法及系统”的专利，公开号CN120489340A，申请日期为2025年07月。
专利摘要显示，本发明公开了一种双推扫高光谱相机共视场光路调节方法及系统，包括：固定平行光管，调节两个高光谱相机的光轴与平行光管的光轴平行，并将两个高光谱相机的狭缝预调节至与地面平行；任意选择一个高光谱相机依次粗调节和精调节；使得第一个高光谱相机对准目标图像，固定第一个高光谱相机的位置，基于第一个高光谱相机的调节结果依次粗调节和精调节另一个高光谱相机，实现两个高光谱相机共视场，通过分步递进式角度优化策略，对高光谱相机进行多维度精确调节，有效解决了传统调节方法精度不足的问题，实现高精度共视场调节。
天眼查资料显示，杭州高谱成像技术有限公司，成立于2019年，位于杭州市，是一家以从事研究和试验发展为主的企业。企业注册资本600万人民币。通过天眼查大数据分析，杭州高谱成像技术有限公司共对外投资了3家企业，参与招投标项目29次，财产线条，此外企业还拥有行政许可5个。
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