浙江奥首材料科技申请涂布工艺通用型等离子体切割保护液专利 可获得均匀致密的保护膜层
时间：2025-08-15 10:32:38 阅读：
国家知识产权局信息显示，浙江奥首材料科技有限公司申请一项名为“一种涂布工艺通用型等离子体切割保护液、其制备方法及应用”的专利，公开号CN120442138A，申请日期为2025年07月。
专利摘要显示，本发明提供一种涂布工艺通用型等离子体切割保护液、其制备方法及应用，所述涂布工艺通用型等离子体切割保护液包括重量配比如下的各组分：超支化聚酯5‑20份；芳香族羰基化合物1‑3份；有机溶剂20‑30份；成膜助剂2‑4份；超纯水30‑50份，所述超支化聚酯为端羧基超支化聚酯。本发明还公开了所述涂布工艺通用型等离子体切割保护液的制备方法及应用。本发明涂布工艺通用型等离子体切割保护液可同时适用于旋涂工艺和超声喷涂工艺，均可获得均匀致密的保护膜层，对晶圆及表面BUMP、沟槽等结构实现保护。
天眼查资料显示，浙江奥首材料科技有限公司，成立于2014年，位于衢州市，是一家以从事化学原料和化学制品制造业为主的企业。企业注册资本6998.5594万人民币。通过天眼查大数据分析，浙江奥首材料科技有限公司共对外投资了4家企业，参与招投标项目23次，财产线条，此外企业还拥有行政许可13个。
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