您现在的位置:主页 > 要闻 >

    华芯巨数申请版图设计规则检查方法相关专利,对版图进行分块处理以提高检测效率

    时间:2025-08-10 11:22:16 阅读:

      国家知识产权局信息显示,华芯巨数微电子有限公司申请一项名为“一种版图设计规则检查方法、装置、设备及存储介质”的专利,公开号CN120409417A,申请日期为2024年01月。

      专利摘要显示,本发明涉及光刻掩模版图检测技术领域,特别涉及一种版图设计规则检查方法、装置、设备及存储介质。所述版图设计规则检查方法包括获取版图并将版图划分为多个区域图层,区域图层包括分割图形及未分割图形;新建第一图层,并在第一图层上插入多个与版图采用同样划分标准的第二图层,将分割图形放置于第一图层上,将区域图层插入对应的第二图层上;对第一图层和第二图层进行设计规则检查以得到检查结果。

      天眼查资料显示,华芯巨数微电子有限公司,成立于2020年,位于杭州市,是一家以从事软件和信息技术服务业为主的企业。企业注册资本2702.5万人民币。通过天眼查大数据分析,华芯巨数微电子有限公司共对外投资了1家企业,财产线条,此外企业还拥有行政许可4个。

      源自: