中胜微申请链式硅晶片去PSG层设备专利，提高设备的使用效率
时间：2025-08-07 21:18:23 阅读：
国家知识产权局信息显示，中胜微精密制造有限公司申请一项名为“一种链式硅晶片去PSG层设备”的专利，公开号CN120417540A，申请日期为2025年05月。
专利摘要显示，本发明公开了一种链式硅晶片去PSG层设备，本发明涉及硅晶片技术领域。包括机体，所述机体的内部开设有第一腔室和第二腔室；第一隔板，所述第一隔板安装在机体的内部；去除机构，所述去除机构设置在第一隔板的外部，所述去除机构包括盒体，所述盒体的内部开设有工作腔，所述盒体安装在第一隔板的外部；进料机构，所述进料机构设置在第一隔板的外部，所述进料机构包括卡位组件和支撑组件，所述卡位组件和支撑组件用于包围硅晶片，控制硅晶片的上下表面分居液体内和液体外。固定槽，所述固定槽开设在机体的内部，所述固定槽的内部安装有第一推杆，所述第一推杆的外部安装有推板。
天眼查资料显示，中胜微精密制造有限公司，成立于2023年，位于泰州市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本3000万人民币。通过天眼查大数据分析，中胜微精密制造有限公司参与招投标项目4次，专利信息9条，此外企业还拥有行政许可3个。
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