鲲游科技申请图形化挡板等相关专利，提高纳米级光学结构的刻蚀精度
时间：2025-09-03 08:16:37 阅读：
国家知识产权局信息显示，上海鲲游科技有限公司申请一项名为“图形化挡板、微纳光学结构的深度控制方法、衍射光栅”的专利，公开号CN120522970A，申请日期为2025年07月。
专利摘要显示，本发明提供了一种图形化挡板、微纳光学结构的深度控制方法、衍射光栅，图形化挡板用于调制深度连续渐变的微纳光学结构，所述挡板包括：扇形基板一和扇形基板二，所述扇形基板一与所述扇形基板二的圆心重合且其边缘相邻设置；所述扇形基板一由至少一个扇形段构成；所述扇形基板二由至少两个不同半径大小的扇形段同心相邻组合而成；所述扇形基板一中任意一个扇形段的半径不等于所述扇形基板二中任意一个扇形段的半径。通过设置不同扇形段的不同半径大小来提高纳米级光学结构的刻蚀精度，尤其是实现深度连续渐变的精确调制，从而制备具有多个不同深度的光栅结构区域，而每一个光栅结构区域内的光栅结构深度是相同的。
天眼查资料显示，上海鲲游科技有限公司，成立于2019年，位于上海市，是一家以从事软件和信息技术服务业为主的企业。企业注册资本1000万人民币。通过天眼查大数据分析，上海鲲游科技有限公司参与招投标项目7次，财产线条，此外企业还拥有行政许可26个。
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