有研亿金申请高纯钨靶材制备及回收利用方法专利，可再次进行高纯钨及钨合金靶材的制备
时间：2025-08-27 20:54:01 阅读：
国家知识产权局信息显示，有研亿金新材料有限公司;有研亿金新材料有限公司申请一项名为“一种高纯钨靶材制备及回收利用的方法”的专利，公开号CN120480199A，申请日期为2025年07月。
专利摘要显示，本发明属于磁控溅射靶材制造技术领域，公开了一种高纯钨靶材制备及回收利用的方法。所述制备及回收方法，以使用后的钨残靶为原料，经过机械破碎及球磨后获得初级钨粉，破碎球磨后与氟气在高温下进行反应获得纯度2N~4N的低纯六氟化钨，再采用CVD沉积的方式获得纯度≥7N，O含量≤300ppm，杂质元素Fe、Ni、Cr、K、Mo≤0.01ppm，平均粒度≤3μm的二级钨粉，以此为原料可以再次进行高纯钨及钨合金靶材的制备。
天眼查资料显示，有研亿金新材料有限公司，成立于2000年，位于北京市，是一家以从事金属制品业为主的企业。企业注册资本84600万人民币。通过天眼查大数据分析，有研亿金新材料有限公司共对外投资了6家企业，参与招投标项目176次，财产线条，此外企业还拥有行政许可51个。
有研亿金新材料有限公司，成立于2021年，位于德州市，是一家以从事有色金属冶炼和压延加工业为主的企业。企业注册资本50000万人民币。通过天眼查大数据分析，有研亿金新材料有限公司参与招投标项目105次，专利信息62条，此外企业还拥有行政许可27个。
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