鑫膜科技申请金属中空纤维电极相关专利，显著缩短传质距离并提升传质效率
时间：2025-08-11 16:18:58 阅读：
国家知识产权局信息显示，沧州市天津工业大学研究院、天津工业大学、沧州市鑫膜科技有限责任公司申请一项名为“金属中空纤维电极、其制备方法及其用途”的专利，公开号CN120400884A，申请日期为2025年06月。
专利摘要显示，本发明涉及金属中空纤维电极、其制备方法及其用途。本发明的金属中空纤维电极在壁上具有贯穿的直径5~50微米的孔道，并且所述孔道的骨架上具有直径100~1000 nm的孔结构。通过在壁上具有贯穿的孔结构，从而为气体和液体提供了更直接的扩散路径，显著缩短传质距离并提升了传质效率，同时，在中空纤维电极的骨架支撑层上引入互联的微纳尺寸的孔隙结构，从而在用作电极时微纳多孔结构提供了更大的表面积，和更多的活性位点，提高了电催化活性。
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