恒光新材料申请低环硅氧烷残留的聚醚改性硅油及其制备方法专利，其 D4 含量≤8ppm、D5 含量≤10ppm、D6 含量≤6ppm，总环硅烷残留量≤23ppm
时间：2025-08-09 03:40:05 阅读：
国家知识产权局信息显示，恒光新材料股份有限公司申请一项名为“低环硅氧烷残留的聚醚改性硅油及其制备方法”的专利，公开号 CN120399237A，申请日期为 2025 年 05 月。
专利摘要显示，本发明属于聚醚改性硅油合成技术领域，具体涉及一种低环硅氧烷残留的聚醚改性硅油及其制备方法。本发明的制备方法包括以下步骤：以八甲基环四硅氧烷和六甲基二硅氧烷为反应物料，制备获得含氢硅油；含氢硅油与烯丙基聚醚混合后，在铂催化剂和甲基丁炔醇抑制剂的作用下进行硅氢加成反应；所得的聚醚多元醇改性硅油粗品进行后处理纯化，得低环硅氧烷残留的聚醚改性硅油；其 D4 含量≤8ppm、D5 含量≤10ppm、D6 含量≤6ppm，总环硅烷残留量≤23ppm，且在 40℃/75％RH 条件下储存 6 个月后总残留量增幅≤20.5％。
天眼查资料显示，恒光新材料股份有限公司，成立于2016年，位于南通市，是一家以从事化学原料和化学制品制造业为主的企业。企业注册资本8395万人民币。通过天眼查大数据分析，恒光新材料股份有限公司共对外投资了8家企业，参与招投标项目13次，财产线条，此外企业还拥有行政许可8个。
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