普兰西申请在焦点路径涂层中具有两种不同晶粒结构的旋转X射线阳极专利，涉及一种用于产生X射线的旋转X射线阳极
时间：2025-08-08 15:20:00 阅读：
国家知识产权局信息显示，普兰西股份有限公司申请一项名为“在焦点路径涂层中具有两种不同晶粒结构的旋转X射线阳极”的专利，公开号CN120418919A，申请日期为2023年11月。
专利摘要显示，本发明涉及一种用于产生X射线的旋转X射线阳极，包括载体和在载体上沿着焦点路径延伸的至少一个环形焦点路径涂层，其中载体由Mo或Mo基合金制成，并且至少一个环形焦点路径涂层由W或W基合金制成，其特征在于，焦点路径涂层从载体开始在垂直于焦点路径表面的方向上具有第一层和直接位于第一层之上的第二层，第一层具有不同于第二层的晶粒结构。
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