锦德光电申请背涂层微透镜结构及增亮膜专利，形成一具有高遮蔽、高耐磨和高亮度的复式微透镜背涂结构
时间：2025-08-04 21:43:21 阅读：
国家知识产权局信息显示，浙江锦德光电材料有限公司申请一项名为“背涂层微透镜结构及增亮膜”的专利，公开号CN120386053A，申请日期为2025年05月。
专利摘要显示，本发明公开了一种背涂层微透镜结构及增亮膜，涉及显示技术领域。其中，该背涂层微透镜结构，包括：一半圆状凸包；及一圆锥状凹陷部，沿所述半圆状凸包的顶部中心处向其内部垂直延伸设置；其中，将一所述圆锥状凹陷部沿预设方向开设于一所述半圆状凸包内，且所述半圆状凸包和所述圆锥状凹陷部同中心设置，以形成一具有高遮蔽、高耐磨和高亮度的复式微透镜背涂结构。本发明，解决现有的常规微透镜结构，无法兼备高雾度、高遮蔽、高耐磨和高亮度的效果，从而影响使用效果的问题。
天眼查资料显示，浙江锦德光电材料有限公司，成立于2017年，位于金华市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本13000万人民币。通过天眼查大数据分析，浙江锦德光电材料有限公司参与招投标项目5次，财产线条，此外企业还拥有行政许可11个。
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