连科半导体申请外延炉反应腔自动清洗装置专利，避免因液体残留以及清洗液与腔体兼容性差导致腔体外延层缺陷的问题
时间：2025-08-02 12:45:59 阅读：
国家知识产权局信息显示，连科半导体有限公司申请一项名为“一种外延炉反应腔自动清洗装置”的专利，公开号CN120362158A，申请日期为2025年05月。
专利摘要显示，本发明属于外延炉技术领域，具体的说是一种外延炉反应腔自动清洗装置，清洗小车，所述清洗小车的上方设置有延伸架，所述延伸架的侧壁安装有连接架，所述连接架远离延伸架的侧方安装有清洗架，所述清洗架可以在外延炉反应腔的内壁上下移动，所述清洗架设置两组，且相对于连接架呈上下对称设置，所述清洗架的端部设置有送气管道，所述送气管道的端部安装有多组送气喷嘴，所述送气喷嘴的出气端朝向外延炉反应腔壁一侧；通过高温化学反应分解并剥离腔室内壁及其部件的污染物，最后通过氮气吹扫出剥离后的产物，如此相比通过化学清洗液清洗，能避免因液体残留以及清洗液与腔体兼容性差导致腔体外延层缺陷的问题。
天眼查资料显示，连科半导体有限公司，成立于2023年，位于无锡市，是一家以从事专用设备制造业为主的企业。企业注册资本11312.5万人民币。通过天眼查大数据分析，连科半导体有限公司共对外投资了1家企业，参与招投标项目3次，财产线条，此外企业还拥有行政许可8个。
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