艾克斯特朗欧洲公司申请用于处理衬底的装置和方法专利，补偿控制气体流对流体轮廓的局部影响
时间：2025-08-21 08:52:27 阅读：
国家知识产权局信息显示，艾克斯特朗欧洲公司申请一项名为“用于处理衬底的装置和方法”的专利，公开号CN120476225A，申请日期为2023年12月。
专利摘要显示，本发明涉及一种用于处理多个衬底的装置和方法，其中衬底布置在反应器壳体的壳体空腔中的基座的支承位置上，其中制程气体的制程气体流从进气构件的一个或多个出气口供给到壳体空腔中，使得制程气体均匀地流过支承位置直至相对于制程气流布置在支承位置下游的排气构件，制程气体通过该排气构件被引出壳体空腔，其中控制气体的局部限定的控制气体流通过至少一个通向壳体空腔的控制气体入口供给到壳体空腔中。为了补偿控制气体流对流体轮廓的局部影响，在控制气体入口的下游和支承位置的下游设置有被补偿气体的局部限定补偿气流流过的补偿入口或出口。
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