深圳晶源申请光刻掩模优化方法等专利，有效提升整体光刻掩模优化效率及精度
时间：2025-08-15 15:40:52 阅读：
国家知识产权局信息显示，深圳晶源信息技术有限公司申请一项名为“光刻掩模优化方法、设备、计算机存储介质及程序产品”的专利，公开号CN120447300A，申请日期为2025年04月。
专利摘要显示，本申请公开了一种光刻掩模优化方法、设备、计算机存储介质及程序产品，涉及半导体技术领域。该光刻掩模优化方法包括：对初始掩模版图进行边打断，得到打断后的多条边，所述多条边中包括非规则边；根据所述非规则边的水平宽度和垂直宽度，确定所述非规则边对应的n个水平分段和n个垂直分段；对所述n个水平分段和所述n个垂直分段进行组合，转换得到所述非规则边对应的规则边，以及包含所述规则边的中间掩模版图；基于所述初始掩模版图对所述中间掩模版图进行掩模优化，得到目标掩模版图。
天眼查资料显示，深圳晶源信息技术有限公司，成立于2016年，位于深圳市，是一家以从事软件和信息技术服务业为主的企业。企业注册资本5000万人民币。通过天眼查大数据分析，深圳晶源信息技术有限公司参与招投标项目5次，财产线条，此外企业还拥有行政许可8个。
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