ASML申请光学系统专利，至少部分地校正由于经确定的位置与标称位置的任何偏差而导致的照射区域处的辐射的空间和或角度分布的任何变化
时间：2025-08-03 20:57:17 阅读：
国家知识产权局信息显示，ASML荷兰有限公司申请一项名为“光学系统”的专利，公开号CN120390902A，申请日期为2023年12月。
专利摘要显示，一种光学系统包括至少一个位置传感器和可调节光学器件，并且被布置为接收辐射束并且将辐射束指引到照射区域。至少一个位置传感器可操作以确定光学系统的部分的位置。可调节光学器件被配置为取决于光学系统的部分的经确定的位置来控制所接收到的辐射束的光路。可调节光学器件可以被配置为至少部分地校正由于经确定的位置与标称位置的任何偏差而导致的照射区域处的辐射的空间和/或角度分布的任何变化。光学系统可以包括用于成像设备的照射系统。还要求保护一种经由光学系统向照射区域提供辐射的对应方法。
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